国家重大科研装备研制项目「超分辨光刻装备研制」通过验收。该光刻机由中科院光电所研制,光刻分辨力达到 22 纳米,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造 10 纳米级别的芯片... 报道称,项目在原理上突破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线,绕过国外相关知识产权壁垒。